第四代镀镍光亮剂简介及其工艺特点　

    一、工艺简介

    第四代光亮镀镍是指20世纪80年代开发的吡啶类、丙炔醇、丙炔胺衍生的一系列中间体，可以根据工艺需要复配使用，从而可以兼顾光亮度、分散能力、整平能力、稳定性、杂质容忍性、走位能力等多种功能，是综合性好的新一代镀镍添加剂。由于有很多中间体可以选择，从而使这一代镀镍添加剂呈现同多种组合并派生出一些添加剂，包括走位剂、柔软剂、整平剂、除杂剂等。

    二、工艺特点

    第四代镀镍光亮剂以下工艺特点：

    ①镀层外观可以根据需要调节为白亮或青亮，以适应不同电镀用户的需求；

    ②镀层结晶细致，整平性好、出光速度快，分散能力强；

    ③添加剂分解产物少、寿命长，处理频率下降，且镀层柔软性好；

    ④抗杂质能力强，对多种金属杂质有容忍性。

    三、出光速度的探讨

    通常认为光亮添加剂是通过影响阴极极化的过程而起作用的，也就是说添加剂对金属电沉积过程有足够大的极化作用，从这一些使用了光亮剂的镀镍液的阴极极化曲线可以得到印证。但是，新一代的镀镍光亮剂并不一定遵守这个原则，通过测试表明，第四代镀镍光亮剂的极化作用并不是很明显，但是其出光的速度非常快，而且分散能力也很好。

    添加剂在阴极表面的作用从其吸附到起作用(以参与电子交换的方式或以改变键能的方式、或影响结晶的方式等)直至脱附，总是有一个速度的。这个速度对电镀过程是有意义的，可以认为它的速度实际决定这种光亮剂的出光速度和二次电流分布的最初覆盖面的形成，也就是说有一类光亮剂在阴极表面可以以极快的速度完成参入还原的过程，这不是可以快速出现光亮镀层，而且对提高二次电流分布的均匀性也是有利的。从电镀实践中可以知道，不同的镀种和镀液在一次通电后形成的镀面积是不同的，并且这种初始镀面要想扩大，需要一定镀覆时间，对于低电流区，甚至是无论延长多少时间都再也镀不上。事实上，这种低电流区的电沉积和通过电后的最初的二次电流分布能力有很大的关系，如果所使用的添加剂在一开始的时候就不能让这些区域得到可以获得电沉积物，以后的时间内也不会有很大的改善。

    由此可以知道有一类光亮剂并不是一定要以增加阴极极化来起作用的，这也就是新一代镀镍光亮剂的技术特征。它对阴极过程的这种影响可以是对晶核起作用，也可以是对晶键起作用。换句话来说，它可以影响晶核的大小，也可以影响晶核间的距离，使其不按金属的本征结晶成长。显然，一种表面活性物质只可能有一种主要的作用方式，当影响晶核的大小时，就不会对晶核的距离也有大的影响，这时选用另一种有协同效应的添加剂就更有意义了。实际上，现在成功的电镀光亮剂都是组合型光亮剂，并且很重要的一个技术参数是这些组分的消耗平衡，由于它们作用原理的不同，在什么样的量的范围内有作用和在作用过程中的消耗量是多少，对电镀添加剂的实用性能有很大的影响。